大日本印刷（DNP）は、非常に少ない電力消費で先進半導体を製造できる技術を開発しました。キヤノン向けの新しい製造装置は、2027年に量産を開始し、新世代の1.4ナノメートル（1ナノメートルは十億分の一メートル）製品のコア部品をサポートします。人工知能（AI）半導体の製造コストも大幅に削減される可能性があります。現在、最先端の半導体を量産するには、世界で唯一荷蘭のASMLホールディングスが製造する極紫外（EUV）リソグラフィー装置を使用する必要があります。ウエハー（基板）上に回路を描く「リソグラフィ工程」は、半導体の総製造コストの3〜5割を占めています。回路が細かくなるほどリソグラフィの回数が増え、電力消費も増加します。1台のEUVリソグラフィー装置の価格は約300億円であり、半導体メーカーにとって大きな投資負担となっています。一方、キヤノンの「ナノインプリント（Nanoimprint）」製造装置は、スタンプのように晶片上に回路を作成します。DNPは、非常に細かいスタンプの原版となる「テンプレート（template）」を開発し、最高で1.4ナノメートルの製造に対応可能です。従来の技術では、2ナノメートルなどの先進的な半導体の製造は困難でした。続きはここをクリックして日経中文网へ日本経済新聞社とフィナンシャル・タイムズは2015年11月に合併し、同じメディアグループとなりました。19世紀に創刊された日本と英国の二つの新聞社が形成した同盟は、「高品質、最強の経済ニュース学」を旗印に、共同特集など幅広い分野で協力を進めています。今回、その一環として、両紙の中国語版ウェブサイト間で記事の相互交換を実現しました。
日本企業が少ない電力で1.4ナノメートルの半導体を製造する技術を開発
大日本印刷（DNP）は、非常に少ない電力消費で先進半導体を製造できる技術を開発しました。キヤノン向けの新しい製造装置は、2027年に量産を開始し、新世代の1.4ナノメートル（1ナノメートルは十億分の一メートル）製品のコア部品をサポートします。人工知能（AI）半導体の製造コストも大幅に削減される可能性があります。
現在、最先端の半導体を量産するには、世界で唯一荷蘭のASMLホールディングスが製造する極紫外（EUV）リソグラフィー装置を使用する必要があります。ウエハー（基板）上に回路を描く「リソグラフィ工程」は、半導体の総製造コストの3〜5割を占めています。回路が細かくなるほどリソグラフィの回数が増え、電力消費も増加します。1台のEUVリソグラフィー装置の価格は約300億円であり、半導体メーカーにとって大きな投資負担となっています。
一方、キヤノンの「ナノインプリント（Nanoimprint）」製造装置は、スタンプのように晶片上に回路を作成します。DNPは、非常に細かいスタンプの原版となる「テンプレート（template）」を開発し、最高で1.4ナノメートルの製造に対応可能です。従来の技術では、2ナノメートルなどの先進的な半導体の製造は困難でした。
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日本経済新聞社とフィナンシャル・タイムズは2015年11月に合併し、同じメディアグループとなりました。19世紀に創刊された日本と英国の二つの新聞社が形成した同盟は、「高品質、最強の経済ニュース学」を旗印に、共同特集など幅広い分野で協力を進めています。今回、その一環として、両紙の中国語版ウェブサイト間で記事の相互交換を実現しました。